应用工艺化学气相沉积CVD三氟化氮在半导体工业中主要用于化学气相淀积(CVD) 装置的清洗。三氟化氮可以单独或与其它气体组合，用作等离子体工艺的蚀刻气体，例如NF3、NF3/Ar、NF3/He用于硅化合物MoSi2的蚀刻；NF3/CCl4、NF3/HCl既用于MoSi2的蚀刻，也用于NbSi2的蚀刻。蚀刻工艺三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体。对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的...

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Published on January 19, 2023 | 1 min read

客户下游行业拆分 应用领域 2019年度 2019年度 2018年度 2018年度 2017年度 2017...

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Published on January 18, 2023 | 5 min read

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Published on January 18, 2023 | 0 min read

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Published on January 18, 2023 | 0 min read

上市前财务情况公司盈利能力稳定，利润率为5%-8%。其中16年到18年盈利翻倍，原因为费用增加不多，体现了规模效益。公司上层架构<img src="https://gi...

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Published on January 15, 2023 | 1 min read